探针卡是在半导体设备的电极上连接探针,收发电气信号,并判断晶圆状态的芯片不良与否的核心部件,
WithMEMS利用独有的MEMS工艺技术,提供不同于制造存储器/系统半导体(非存储器)测试探针卡所需的核心部件的高精密测试解决方案。
TRAMS是为进行Logic、SoC等非存储设备测试的独有的垂直式探针卡解决方案。Free Load无需Floating,持续性地在ST Pad或PCB Pad上直接接触,稳定性优,可实现Low force、Low scrub、High Alignment精密度。
利用自主设计及MEMS工艺技术,将Metal Housing与Metal Spring的Complex结构同时通过整体工程制造生产。根据应用程序及要求SPEC,通过改变材质及
设计,产品组合正在向多元化发展,以TRAMS探针的垂直式探针头形态开发及供应对应。
Items | Pad Application | Bump Application | ||
---|---|---|---|---|
TRAMS-P170 | TRAMS-P80 | TRAMS-B120 | TRAMS-B80 | |
Array Min. Pitch | 170um | 80um | 120um | 80um |
In-line Min. Pitch | 70um | 55um | 80um | 55um |
Min. Pad Dimension | 40um | 40um | 40um | 40um |
Alignment Accuracy(X/Y) | ± 5um | ± 5um | ± 5um | ± 5um |
Planarity(Z) | ± 7um | ± 7um | ± 7um | ± 7um |
Operating Temperature | -40~125℃ | -40~100℃ | -40~100℃ | -40~100℃ |
Pin Force | 2.0gf/mil | 0.5-1.0gf/mil | 1.5-2.0gf/mil | 0.5-1.0gf/mil |
Typical Overdrive | 2mil(Max. 4mil) | 2mil(Max. 3mil) | 2mil(Max. 3mil) | 2mil(Max. 3mil) |
Typical Touchdown | 700K | 600K | 700K | 600K |
Probe Type | MEMS Vertical | MEMS Vertical | MEMS Vertical | MEMS Vertical |
Material | Ni Alloy(Rh Tip) | Ni Alloy(Rh Tip) | Ni Alloy | Ni Alloy |
Tip Diameter | 10 x 10um | 10 x 10um | 60 x 55um | 36 x 33um |
Body Size | 230 x 44um | 90 x 36um | 146 x 60um | 90 x 36um |
Probe Length | 2.7mm | 2.5mm | 3.0mm | 2.7mm |
Leakage: Pin to Ground | <10nA | <10nA | <10nA | <10nA |
Min. Current per Pin | 500mA | 300~400mA | 500mA | 300~400mA |
Typical Contact resistance | 0.5Ω | 0.5Ω | 0.5Ω | 0.5Ω |
Max. Contact resistance | <2Ω | <2Ω | <2Ω | <2Ω |
Probe Mark Dimension | 14~16um | 14~16um |
利用自主开发的MEMS工艺技术,开发及量产供应适用于DRAM/NAND探针卡及CIS、DC探针卡的高精密MEMS刀片针(Blade Probe)。
可应用Rh(铑)Tip,通过CMP及3D AOI检查可实现最高水平的Thickness精密度(±1μm以内)。
根据应用程序及要求SPEC,可通过变更材质及设计,实现产品定制化。
DRAM/NAND探针卡适用的大面积(300mm)陶瓷基板(MLC)采用感光性Polyimide材料,利用Lithography、Electro Plating、CMP等核心要素技术,连接多层内部电极电路和Via,制作复合结构的叠层电路板,嵌入式薄膜电阻工艺正在另行开发中。
如果对半导体探针卡核心部件有任何疑问,敬请垂询。